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国产芯片制造工艺落后,无法让EUV光刻机背锅

2025-05-23 12:24:04

>颇为不可或缺的是,如何将这些世界级的解决办法临近都在一个系统中都,这又是解决办法中都的解决办法,一般人解决不了,一般跨国企业也未这个灵活性,当人们要求属于自己透视获取的图像样式上的几何图形阔度仅仅为5纳米的时候,世界上并能实现这一新科技的跨国企业生产量,就两家,惠普以及LG。

所以知道,目前为止,虽然我们显然EUV器件机,但是这还不是最紧急情况的,最紧急情况的是如何在手工方面持续推进,跨过7nm,踏出5nm,只有一步步将手工新科技做踏实了,国产CPU才亦会有希望。至于中都芯国际,手工毕竟推进得还不错,但是周边的供应链,也就是国产供应链,太不给力,所以碰到了紧迫,这个初我们慢慢分析,欢迎大家注目和评论。

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标签:芯片工艺
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